高純度 ALD3 和 ALD6 閥旨在為半導體制造商提供可靠、高速的前體氣體計量，用于在沉積室中逐層構建微芯片。高純 ALD3 和 ALD6 閥門可設置為常閉和常開氣動驅動，它們有多種配置可供選擇，包括兩端口直管和彎管設計；二通、三通和四通多通閥和多閥歧管；以及 1.125 英寸（限 ALD3 系列）和 1.5 英寸平臺中的二端口和三端口模塊化表面安裝閥。可用的熱致動器、位置傳感器、螺線管和可選的用于容納加熱器筒的主體孔都可以根據用戶的特定過程為用戶提供額外的價值。

具有高速驅動的高循環壽命

流量系數范圍從 0.27 到 0.62，可提供自定義流量系數

使用可選的熱致動器可完全浸入高達 392°F (200°C) 的溫度

適用于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的高純度應用

模塊化表面安裝、管對接焊和世偉洛克 VCR端接

電子或光學致動器位置感應選項

ALD3 和 ALD6 隔膜由鈷基高溫合金材料組成，具有強度和耐腐蝕性；閥體由 316L VIM-VAR 不銹鋼制成，適用于高純應用；閥座由全氟化高純度 PFA 組成，具有廣泛的化學兼容性和抗溶脹性和抗污染性。